2020年10月21日開催　半導体製造技術 －最新動向と技術普及－

半導体製造技術 －最新動向と技術普及－

日時

　令和２年１０月２１日（水曜日） １３時００分 ～１６時４５分

場所

　「Zoom」によるWeb開催

内容

　１　演題：「 半導体シリコンの高品位化技術と今後の研究開発動向 」

　　　講師：岡山県立大学情報工学部情報通信工学科　教授　末岡 浩治 氏

　　　概要：1. 半導体Siウェーハ業界の概要
　　　　　　2. Siウェーハの高品位化技術
　　　　　　　(1) 不純物ゲッタリング
　　　　　　　(2) 点欠陥制御
　　　　　　3. 最近の話題
　　　　　　　(1) CMOSイメージセンサー：近接ゲッタリング
　　　　　　　(2) Siパワーデバイス：ライフタイム制御
　　　　　　4. まとめ

　２　演題：「 シリサイド系熱電材料の基礎物性と実用化に向けた事例 」

　　　講師：岡山理科大学理学部基礎理学科　教授　森 嘉久 氏

　　　概要：1. 熱電発電の原理と特徴
　　　　　　2. 太陽電池と熱電変換素子
　　　　　　3. 我が国の排ガス熱量
　　　　　　4. 自動車の排熱量とエンジン排気熱発電
　　　　　　5. 車載用排熱発電の開発
　　　　　　6. EUにおける自動車CO2排出規制
　　　　　　7. パワートレインの動向
　　　　　　8. 様々な熱電変換材料
　　　　　　9. 熱電材料のコストパフォーマンス

　３　演題：「 新しい半導体製造装置ミニマルファブの概要と九州における取組事例 」

　　　講師：国立研究開発法人産業技術総合研究所九州センター　所長　平井 寿敏 氏

　　　概要：1. 産総研の概要
　　　　　　　(1) 産総研と地域イノベーション
　　　　　　　(2) 中国センターの紹介
　　　　　　　(3) 九州センターの紹介
　　　　　　2. ミニマルファブの概要
　　　　　　3. 九州における取組紹介

参加者 

　２８名（Ｗｅｂ受講者数）